永光化學展出全系列光阻劑 滿足觸控廠所需
北京時間2013年08月30日消息,寶威科技網訊,永光化學參加2013年臺灣觸控面板暨光學膜製程設備材料展,在臺北南港展覽館L區818攤位,展出觸控面板光阻劑、低溫多晶硅(LTPS) TFT-LCD光阻劑、軟性基材用的覆晶薄膜封裝(COF)光阻劑、主動式有機發光二極體(AMOLED)光阻劑等等應用在光電領域的多項產品。
永光化學自1996年發展電子化學事業,一路走來不間斷的建立自主技術,在低溫多晶硅(LTPS) TFT LCD製程關鍵化學品已上市EPL386及EPL388正型光阻劑;在觸控領域方面,新世代絕緣層透明光阻劑EOC300Series產品已上市,該產品具有高透明性、接著性佳、高硬度、低曝光能量、易顯影及耐蝕刻特性、耐高溫、耐高濕之特性,運用于觸控面板絕緣層(OC1)與保護層(OC2),已成為事業營運的主力產品。
永光提供EPL388光阻劑產品以滿足高解析度、高色彩飽和度等平面顯示器的基本需求;而AMOLED顯示技術應用在手機及平板電腦的比例已明顯提高,永光也提供EPL356及ENPI300光阻劑滿足客戶所需。
EPL388光阻劑應用在LTPS的TFT-LCD製程,由于具備高解析度、高敏感度的特性,能有效降低曝光時間以增加產能,而且在面板製程中與顯影液的相容性高,可有效解決製程殘留問題。
EPL356光阻劑應用在AMOLED面板製程中,可用在絕緣層(insulator)以及ITO與金屬線路的圖形化,具有高色彩飽和度、高解析度、耐蝕刻性佳等優點。ENPI300光阻劑,應用在間隔層(Pillar or Rib),具有高耐熱性佳、光阻Overhang角度佳等優點。
在Flexible應用方面,永光專利新產品FSR110&112為正型光阻劑,主要應用在可撓性顯示器的產品,具高解析度、曝光能量低、可撓曲性、涂佈性及良好附著性、并且可使用1%碳酸鈉系統顯影等特性;將推廣至面板驅動IC的COF&TAPE製程應用,也可涂佈在軟性基材上,將是高階智慧型手機、平板電腦等3C電子商品朝向輕、薄、短、小及精緻化發展趨勢中,不可或缺之關鍵及前瞻性製程材料。
近年來智慧型手機的投射電容觸控技術,實現了人們使用便利的多點觸控功能。永光也持續地隨著觸控技術的演進,與產業同步精進,不斷推出透明、絕緣度更好、附著性更佳的產品,其中永光EOC系列透明絕緣光阻,可以說是投射電容觸控面板最關鍵的材料之一。
EOC270系列光阻劑,適用于一片玻璃式(OGS)觸控製程之觸控面板製造。有良好的抗氫氟酸(HF)蝕刻能力并可剝除。且于化學強化玻璃或各種金屬基材上有優良的附著力(大于4B)。
EOC200系列光阻劑,使用在觸控面板絕緣層與保護層,具有高硬度(4H)、良好金屬附著性(大于4B)、高穿透率(膜厚1.5μm,穿透率大于95%)等特性。可以搭配無機鹼型(KOH type)顯影液與緩沖型(Buffer type)顯影液使用,也可搭配不含金屬離子的TMAH顯影液使用。
永光化學針對觸控面板厚度減薄的需求,開發了EK系列的黑色光阻產品,EK520、EK570光阻劑,適用于OGS製程之觸控面板製造,具有高敏感度、良好黏著性(大于4B)、高表面電阻及優良耐熱與耐化學的特性。
展望LCD發展趨勢將聚焦于OGS製程之關鍵化學品開發,永光未來將再提升黑色光阻劑EK520&570黃光製程特性,并持續開發及鑽研大于300°C耐高溫製程且具有高表面電阻特性的觸控面板用光阻劑,以持續滿足客戶需求。